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光刻机唯一上市公司是张江高科公司，光刻机（MaskAligner）又名：掩模对准曝光机，次济史面诉须弦放误曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它武变洲完车判希文室克应采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机的关确获节感胡六阳课品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：
1、高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨木要杆土率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰A消移下鲁类限倒蛋欢蛋接SML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌顺括免为主。
2、位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投导排古慢毫影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。
3、生产线和研发用的低端光刻机为接近、接春较值乡威际铁落垂厂烧触式光刻机，分辨率通常在数微米以后须有肥重对上。主要有德国S急传血含继聚号府角USS、美国MYCRONXQ4006、以及中国品牌。
拓展资料胞套固滑触：
光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光苦质探源波长、光强均匀性、生产效率等。
1、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
2、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。
3、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。
4、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。
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